中微公司创始人尹志尧的刻蚀机人生

作为国内等离子体刻蚀设备领域的领军人物，尹志尧深耕半导体刻蚀技术数十年，在 2004 年选择回国创办中微公司，带领团队攻克等离子体刻蚀一系列卡脖子难题，持续推动国产刻蚀设备走向先进制程，近期他持续在行业论坛发声，强调半导体设备行业需要抱团协同发展，坚持差异化创新路线，中微公司也持续向 GAA、3D DRAM 等下一代芯片工艺交付全新刻蚀设备，不断拓宽国产半导体设备的应用边界。

尹志尧早年在海外头部半导体企业深耕多年，深度参与多代主流刻蚀设备的研发落地，积累大量等离子体微观加工的底层技术经验，回国创业之后，他带领团队从零起步，避开简单复刻国外设备的思路，坚持自主知识产权研发，逐步打造出覆盖不同工艺节点的刻蚀设备矩阵，从单一刻蚀设备厂商拓展为平台化半导体设备企业，目前公司刻蚀设备加工精度达到原子级，大量反应台在海内外多条产线稳定量产，在先进逻辑芯片、存储芯片制造环节实现稳定供货，为国内集成电路产业链提供关键装备支撑。

在专注技术研发之外，尹志尧也持续为国内半导体产业发展建言献策，他提醒行业要理性看待产业热潮，避免分散低水平重复建设，同时持续布局薄膜、检测等其他半导体设备赛道，推动公司产品矩阵持续丰富，他对行业长期发展抱有清晰规划，提出阶段性发展目标，鼓励国内设备企业加强产业链协同，共同完善本土半导体装备生态，也让更多人看到国产高端设备从跟跑到并跑、部分领域领跑的成长路径。

【数据来源】

[2026-11-10]（中微公司首台等离子体晶圆切割设备成功交付）IT 之家

[2026-11-07]（中微公司 GAA 高选择性刻蚀设备客户验证进展）上海证券报

[2026-11-03]（尹志尧谈半导体设备行业协同创新）新华网

免责声明：本文内容基于公开权威媒体报道整理，相关技术进展、产业观点以企业官方发布、权威行业发布会信息为准，本文仅为人物科普报道，不构成投资以及产业研判依据，相关技术细节请以企业官方公告为准。